Hỗ trợ lớp phủ Tantalum cacbua

Là nhà sản xuất và nhà máy sản xuất sản phẩm Hỗ trợ lớp phủ cacbua Tantalum chuyên nghiệp tại Trung Quốc, Chất hỗ trợ lớp phủ Tantalum cacbua bán dẫn VeTek thường được sử dụng để phủ bề mặt các bộ phận cấu trúc hoặc các bộ phận hỗ trợ trong thiết bị bán dẫn, đặc biệt là để bảo vệ bề mặt của các thành phần thiết bị chính trong quy trình sản xuất chất bán dẫn như CVD và PVD. Chào mừng bạn tư vấn thêm.

Gửi yêu cầu

Mô tả Sản phẩm

Chức năng chính của VeTek SemiconductorLớp phủ tantalum cacbua (TaC)Hỗ trợ là để cải thiệnkhả năng chịu nhiệt, chống mài mòn và chống ăn mòncủa chất nền bằng cách phủ một lớp Lớp phủ Tantalum cacbua, để cải thiện độ chính xác và độ tin cậy của quy trình và kéo dài tuổi thọ của các bộ phận. Nó là một sản phẩm sơn hiệu suất cao được sử dụng trong lĩnh vực xử lý chất bán dẫn.

Chất hỗ trợ lớp phủ Tantalum Carbide của VeTek Semiconductor có độ cứng Mohs gần 9~10, chỉ đứng sau kim cương. Nó có khả năng chống mài mòn cực kỳ mạnh mẽ và có thể chống mài mòn và va đập bề mặt một cách hiệu quả trong quá trình xử lý, từ đó kéo dài tuổi thọ của các bộ phận thiết bị một cách hiệu quả. Kết hợp với điểm nóng chảy cao khoảng 3880°C, nó thường được sử dụng để phủ các thành phần chính của thiết bị bán dẫn, chẳng hạn như lớp phủ bề mặt của các cấu trúc hỗ trợ, thiết bị xử lý nhiệt, buồng hoặc miếng đệm trong thiết bị bán dẫn để tăng cường khả năng chống mài mòn và nhiệt độ cao. sức chống cự.

Do nhiệt độ nóng chảy cực cao của Tantalum Carbide khoảng 3880°C nên trong các quy trình xử lý chất bán dẫn nhưlắng đọng hơi hóa học (CVD)Vàlắng đọng hơi vật lý (PVD), Lớp phủ TaC với khả năng chịu nhiệt độ cao và chống ăn mòn hóa học mạnh mẽ có thể bảo vệ hiệu quả các bộ phận thiết bị và ngăn ngừa sự ăn mòn hoặc hư hỏng lớp nền trong môi trường khắc nghiệt, mang lại sự bảo vệ hiệu quả cho môi trường nhiệt độ cao trong sản xuất tấm bán dẫn. Tính năng này cũng xác định rằng Lớp phủ Tantalum Carbide Hỗ trợ của VeTek Semiconductor thường được sử dụng trong các quy trình ăn mòn và ăn mòn.

Hỗ trợ lớp phủ Tantalum Carbide cũng có chức năng giảm ô nhiễm hạt. Trong quá trình xử lý tấm bán dẫn, sự mài mòn bề mặt thường tạo ra các hạt nhiễm bẩn, ảnh hưởng đến chất lượng sản phẩm của tấm bán dẫn. Đặc tính sản phẩm cực cao của Lớp phủ TaC có độ cứng gần 9-10 Mohs có thể làm giảm sự mài mòn này một cách hiệu quả, do đó làm giảm việc tạo ra các hạt. Kết hợp với khả năng dẫn nhiệt tuyệt vời của Lớp phủ TaC (khoảng 21 W/m·K), nó có thể duy trì độ dẫn nhiệt tốt trong điều kiện nhiệt độ cao, từ đó cải thiện đáng kể năng suất và tính nhất quán của quá trình sản xuất tấm bán dẫn.

Các sản phẩm Lớp phủ TaC chính của VeTek Semiconductor bao gồmMáy sưởi lớp phủ TaC, Nồi nấu kim loại phủ CVD TaC, Chất nhạy cảm xoay lớp phủ TaCVàPhụ tùng lớp phủ TaC, v.v. và hỗ trợ các dịch vụ sản phẩm tùy chỉnh. VeTek Semiconductor cam kết cung cấp các sản phẩm và giải pháp kỹ thuật xuất sắc cho ngành bán dẫn. Chúng tôi chân thành hy vọng sẽ trở thành đối tác lâu dài của bạn tại Trung Quốc.

Lớp phủ tantalum cacbua (TaC) trên mặt cắt cực nhỏ:

Tantalum carbide (TaC) coating on a microscopic cross-section 1

Tính chất vật lý cơ bản của lớp phủ CVD TaC：

Tính chất vật lý của lớp phủ TaC
Tỉ trọng	14,3 (g/cm³)
Độ phát xạ cụ thể	0.3
Hệ số giãn nở nhiệt	6,3 * 10^-6/K
Độ cứng (HK)	2000HK
Sức chống cự	1×10^-5Ohm*cm
Độ ổn định nhiệt	<2500oC
Thay đổi kích thước than chì	-10~-20um
độ dày lớp phủ	≥20um giá trị điển hình (35um±10um)