Lớp phủ cacbua Tantalum

VeTek Semiconductor là nhà sản xuất và cải tiến hàng đầu về Lớp phủ Tantalum Carbide tại Trung Quốc. Chúng tôi tập trung vào việc cung cấp các sản phẩm cacbua tantalum có độ tinh khiết cao, chịu được nhiệt độ cao. Lớp phủ cacbua tantalum của chúng tôi có hiệu suất và độ tin cậy tuyệt vời, đồng thời có thể bảo vệ vật liệu một cách hiệu quả trong môi trường ăn mòn và nhiệt độ cực cao. Chúng tôi mong muốn trở thành đối tác lâu dài của bạn tại Trung Quốc.

Gửi yêu cầu

Mô tả Sản phẩm

VeTek Semiconducto là nhà sản xuất và cung cấp Vỏ phủ Tantalum Carbide chuyên nghiệp của Trung Quốc. Lớp phủ cacbua Tantalum của chúng tôi đại diện cho giải pháp mới nhất trong các ứng dụng nhiệt cho quá trình phát triển tinh thể và epit Wax (epi). Lớp vỏ độc đáo, được chế tạo cẩn thận này là một thành phần quan trọng để duy trì sự hình thành tinh thể và lắng đọng màng epiticular.

Vật liệu cốt lõi của Vỏ than chì phủ TaC được làm bằng than chì chất lượng cao, được biết đến với tính dẫn nhiệt và độ ổn định tuyệt vời. Khả năng chịu được nhiệt độ khắc nghiệt của than chì khiến nó trở thành vật liệu lý tưởng cho các ứng dụng trường nhiệt, đảm bảo tuổi thọ và độ tin cậy trong môi trường đòi hỏi khắt khe.

Tính năng độc đáo của Lớp phủ than chì phủ TaC là lớp phủ Tantalum Carbide (TaC) cải tiến. Lớp phủ tiên tiến này nâng cao hiệu suất của vỏ bằng cách thêm một lớp bảo vệ chắc chắn và tăng cường khả năng chống ăn mòn, mài mòn và sốc nhiệt. Lớp phủ TaC không chỉ tăng cường độ bền của vỏ trong điều kiện khắc nghiệt mà còn cải thiện hiệu quả và kéo dài tuổi thọ của nó.

Trong quá trình phát triển tinh thể, Lớp phủ than chì phủ TaC tạo điều kiện kiểm soát nhiệt độ chính xác và phân bổ nhiệt đều, tạo môi trường thuận lợi cho sự hình thành các tinh thể chất lượng cao. Ngoài ra, khả năng thích ứng của nó trong quá trình epit Wax đảm bảo sự lắng đọng có kiểm soát của màng mỏng, điều này rất quan trọng đối với các ứng dụng khoa học vật liệu và bán dẫn.

Nắp than chì được phủ TaC được thiết kế cẩn thận này thể hiện đầy đủ sức mạnh tổng hợp giữa các đặc tính vốn có của than chì và khả năng nâng cao do lớp phủ TaC mang lại. Dù được sử dụng trong phòng thí nghiệm, viện nghiên cứu hay môi trường công nghiệp, nắp than chì phủ TaC là mô hình đổi mới công nghệ nhiệt, cung cấp giải pháp đáng tin cậy và bền bỉ cho quá trình phát triển tinh thể và epitaxy. VeTek Semiconductor sẽ tiếp tục cam kết cung cấp cho khách hàng những giải pháp công nghệ tiên tiến nhất và hỗ trợ toàn diện.

Thông số sản phẩm của lớp phủ Tantalum Carbide

Tính chất vật lý của lớp phủ TaC
Tỉ trọng	14,3 (g/cm³)
Độ phát xạ cụ thể	0.3
Hệ số giãn nở nhiệt	6,3 10-6/K
Độ cứng (HK)	2000 HK
Sức chống cự	1×10-5 Ôm*cm
Ổn định nhiệt	<2500oC
Thay đổi kích thước than chì	-10~-20um
độ dày lớp phủ	≥20um giá trị điển hình (35um±10um)