Lắng đọng hơi vật lý bán dẫn Vetek (PVD) là một công nghệ xử lý tiên tiến được sử dụng rộng rãi trong xử lý bề mặt và chuẩn bị màng mỏng. Công nghệ PVD sử dụng các phương pháp vật lý để biến đổi trực tiếp vật liệu từ rắn hoặc lỏng sang khí và tạo thành một lớp màng mỏng trên bề mặt chất nền mục tiêu. Công nghệ này có ưu điểm là độ chính xác cao, độ đồng đều cao và độ bám dính mạnh, được sử dụng rộng rãi trong chất bán dẫn, thiết bị quang học, lớp phủ dụng cụ và lớp phủ trang trí. Chào mừng bạn đến thảo luận với chúng tôi!
Đọc thêmGửi yêu cầuBột nano pha MAX bán dẫn của Veteksemi cung cấp các đặc tính nhiệt và điện đặc biệt, lý tưởng cho các ứng dụng khoa học vật liệu và điện tử tiên tiến. Với khả năng chống oxy hóa vượt trội và ổn định ở nhiệt độ cao, bột nano của Veteksemi là giải pháp hoàn hảo cho các công nghệ bán dẫn tiên tiến. Chào mừng bạn đến hỏi chúng tôi.
Đọc thêmGửi yêu cầuCông nghệ phun nhiệt Vetek Semiconductor đóng vai trò cực kỳ quan trọng trong ứng dụng phủ của nồi nấu kim loại thiêu kết cho vật liệu tụ gốm nhiều lớp (MLCC) cao cấp. Với việc liên tục thu nhỏ và hiệu suất cao của các thiết bị điện tử, nhu cầu về công nghệ phun nhiệt của tụ điện MLCC cũng ngày càng tăng nhanh, đặc biệt là trong các ứng dụng cao cấp. Để đáp ứng nhu cầu này, nồi nấu kim loại được sử dụng trong quá trình thiêu kết phải có khả năng chịu nhiệt độ cao, chống ăn mòn và dẫn nhiệt tốt, tất cả đều có thể đạt được và cải thiện bằng công nghệ phun nhiệt. Mong được thiết lập kinh doanh lâu dài với bạn.
Đọc thêmGửi yêu cầuCông nghệ phun nhiệt Vetek Semiconductor đóng vai trò quan trọng trong ứng dụng cánh tay robot xử lý wafer, đặc biệt là trong môi trường sản xuất chất bán dẫn đòi hỏi độ chính xác cao và độ sạch cao. Công nghệ này cải thiện đáng kể độ bền, độ tin cậy và hiệu quả làm việc của thiết bị bằng cách phủ các vật liệu đặc biệt lên bề mặt cánh tay robot xử lý wafer. Chào mừng bạn đến hỏi chúng tôi.
Đọc thêmGửi yêu cầuCông nghệ phun nhiệt bán dẫn Vetek Semiconductor là một quy trình tiên tiến phun các vật liệu ở trạng thái nóng chảy hoặc bán nóng chảy lên bề mặt chất nền để tạo thành lớp phủ. Công nghệ này được sử dụng rộng rãi trong lĩnh vực sản xuất chất bán dẫn, chủ yếu được sử dụng để tạo ra các lớp phủ có chức năng cụ thể trên bề mặt đế như dẫn điện, cách nhiệt, chống ăn mòn và chống oxy hóa. Ưu điểm chính của công nghệ phun nhiệt bao gồm hiệu suất cao, độ dày lớp phủ có thể kiểm soát và độ bám dính lớp phủ tốt, khiến nó đặc biệt quan trọng trong quy trình sản xuất chất bán dẫn đòi hỏi độ chính xác và độ tin cậy cao. Mong nhận được yêu cầu của bạn.
Đọc thêmGửi yêu cầu