VeTek Semiconductor là nhà sản xuất và cải tiến Vòng lấy nét Solid SiC hàng đầu tại Trung Quốc. Chúng tôi đã chuyên về vật liệu SiC trong nhiều năm. SiC rắn được chọn làm vật liệu vòng lấy nét do tính ổn định nhiệt hóa tuyệt vời, độ bền cơ học cao và khả năng chống lại plasma xói mòn. Chúng tôi mong muốn trở thành đối tác lâu dài của bạn tại Trung Quốc.
Bạn có thể yên tâm mua Vòng lấy nét khắc SiC rắn từ nhà máy của chúng tôi. Công nghệ mang tính cách mạng của VeTek Semiconductor cho phép sản xuất Vòng lấy nét khắc SiC rắn, một vật liệu cacbua silic có độ tinh khiết cực cao được tạo ra thông qua quá trình lắng đọng hơi hóa học.
Vòng lấy nét khắc SiC rắn được sử dụng trong quy trình sản xuất chất bán dẫn, đặc biệt là trong hệ thống khắc plasma. Vòng lấy nét khắc SiC rắn là một thành phần quan trọng giúp đạt được quá trình khắc chính xác và có kiểm soát trên các tấm bán dẫn silicon cacbua (SiC).
1. Tập trung plasma: Vòng lấy nét khắc SiC rắn giúp định hình và tập trung plasma xung quanh wafer, đảm bảo quá trình ăn mòn diễn ra đồng đều và hiệu quả. Nó giúp giới hạn plasma ở khu vực mong muốn, ngăn ngừa sự ăn mòn đi lạc hoặc làm hỏng các khu vực xung quanh.
2. Bảo vệ thành buồng: Vòng lấy nét đóng vai trò như một rào cản giữa plasma và thành buồng, ngăn chặn sự tiếp xúc trực tiếp và hư hỏng có thể xảy ra. SiC có khả năng chống xói mòn plasma cao và mang lại sự bảo vệ tuyệt vời cho thành buồng.
3. Kiểm soát nhiệt độ: Vòng lấy nét hỗ trợ duy trì sự phân bố nhiệt độ đồng đều trên tấm bán dẫn trong quá trình ăn mòn. Nó giúp tản nhiệt và ngăn ngừa tình trạng quá nhiệt cục bộ hoặc độ dốc nhiệt có thể ảnh hưởng đến kết quả ăn mòn.
SiC rắn được chọn làm vòng lấy nét do tính ổn định nhiệt và hóa học vượt trội, độ bền cơ học cao và khả năng chống ăn mòn plasma. Những đặc tính này làm cho SiC trở thành vật liệu phù hợp với các điều kiện khắc nghiệt và đòi hỏi khắt khe bên trong hệ thống khắc plasma.
Cần lưu ý rằng thiết kế và thông số kỹ thuật của vòng lấy nét có thể khác nhau tùy thuộc vào yêu cầu quy trình và hệ thống khắc plasma cụ thể. Chất bán dẫn VeTek tối ưu hóa hình dạng, kích thước và đặc điểm bề mặt của vòng lấy nét để đảm bảo hiệu suất khắc và tuổi thọ tối ưu. SiC rắn được sử dụng rộng rãi cho các chất mang wafer, chất nhạy cảm, wafer giả, vòng dẫn hướng, các bộ phận cho quá trình khắc, quy trình CVD, v.v.
Tính chất vật lý của SiC rắn | |||
Tỉ trọng | 3.21 | g/cm3 | |
Điện trở suất | 102 | Ω/cm | |
Độ bền uốn | 590 | MPa | (6000kgf/cm2) |
Mô đun Young | 450 | GPa | (6000kgf/mm2) |
Độ cứng Vickers | 26 | GPa | (2650kgf/mm2) |
CTE (RT-1000oC) | 4.0 | x10-6/K | |
Độ dẫn nhiệt (RT) | 250 | W/mK |