Cacbua tantali xốp

VeTek Semiconductor là nhà sản xuất chuyên nghiệp và dẫn đầu về các sản phẩm cacbua Tantalum xốp tại Trung Quốc. Tantalum Carbide xốp thường được sản xuất bằng phương pháp lắng đọng hơi hóa học (CVD), đảm bảo kiểm soát chính xác kích thước và sự phân bố lỗ chân lông của nó, đồng thời là công cụ vật liệu dành riêng cho môi trường khắc nghiệt ở nhiệt độ cao. Chào mừng bạn tư vấn thêm.

Gửi yêu cầu

Mô tả Sản phẩm

Chất bán dẫn VeTek xốp Tantalum cacbua (TaC) là vật liệu gốm hiệu suất cao kết hợp các đặc tính của tantalum và carbon. Cấu trúc xốp của nó rất phù hợp cho các ứng dụng cụ thể ở nhiệt độ cao và môi trường khắc nghiệt. TaC kết hợp độ cứng tuyệt vời, độ ổn định nhiệt và khả năng kháng hóa chất, khiến nó trở thành lựa chọn vật liệu lý tưởng trong xử lý chất bán dẫn.

Tantalum Carbide xốp (TaC) được cấu tạo từ tantalum (Ta) và carbon (C), trong đó tantalum hình thành liên kết hóa học mạnh với các nguyên tử carbon, giúp vật liệu có độ bền và khả năng chống mài mòn cực cao. Cấu trúc xốp của Porous TaC được tạo ra trong quá trình sản xuất vật liệu và độ xốp có thể được kiểm soát theo nhu cầu ứng dụng cụ thể. Sản phẩm này thường được sản xuất bởilắng đọng hơi hóa học (CVD)phương pháp, đảm bảo kiểm soát chính xác kích thước và sự phân bố lỗ chân lông của nó.

Molecular structure of Tantalum Carbide

Cấu trúc phân tử của Tantalum cacbua

Chất bán dẫn VeTek xốp Tantalum cacbua (TaC) có các tính năng sản phẩm sau

● Độ xốp: Cấu trúc xốp mang lại cho nó những chức năng khác nhau trong các tình huống ứng dụng cụ thể, bao gồm khuếch tán khí, lọc hoặc tản nhiệt có kiểm soát.

● Điểm nóng chảy cao: Tantalum cacbua có nhiệt độ nóng chảy cực cao khoảng 3.880°C, thích hợp với môi trường nhiệt độ cực cao.

● Độ cứng tuyệt vời: TaC xốp có độ cứng cực cao khoảng 9-10 trong thang độ cứng Mohs, tương tự như kim cương. , và có thể chống mài mòn cơ học trong điều kiện khắc nghiệt.

● Độ ổn định nhiệt: Vật liệu Tantalum Carbide (TaC) có thể duy trì ổn định trong môi trường nhiệt độ cao và có độ ổn định nhiệt cao, đảm bảo hiệu suất ổn định trong môi trường nhiệt độ cao.

● Độ dẫn nhiệt cao: Mặc dù có độ xốp nhưng Tantalum Carbide xốp vẫn giữ được độ dẫn nhiệt tốt, đảm bảo truyền nhiệt hiệu quả.

● Hệ số giãn nở nhiệt thấp: Hệ số giãn nở nhiệt thấp của Tantalum Carbide (TaC) giúp vật liệu duy trì ổn định về kích thước dưới những biến động nhiệt độ đáng kể và giảm tác động của ứng suất nhiệt.

Tính chất vật lý của lớp phủ TaC

Tính chất vật lý củaLớp phủ TaC
Mật độ lớp phủ TaC	14,3 (g/cm³)
Độ phát xạ cụ thể	0.3
Hệ số giãn nở nhiệt	6,3 * 10^-6/K
Độ cứng lớp phủ TaC (HK)	2000 HK
Sức chống cự	1×10^{-5 O}hm*cm
Độ ổn định nhiệt	<2500oC
Thay đổi kích thước than chì	-10~-20um
độ dày lớp phủ	≥20um giá trị điển hình (35um±10um)

Trong sản xuất chất bán dẫn, cacbua Tantalum xốp (TaC) đóng vai trò quan trọng cụ thể sau đâys

Trong các quá trình nhiệt độ cao nhưkhắc plasmavà CVD, VeTek xốp Tantalum cacbua bán dẫn thường được sử dụng làm lớp phủ bảo vệ cho thiết bị xử lý. Điều này là do khả năng chống ăn mòn mạnh mẽ củaLớp phủ TaCvà độ ổn định nhiệt độ cao của nó. Những đặc tính này đảm bảo rằng nó bảo vệ hiệu quả các bề mặt tiếp xúc với khí phản ứng hoặc nhiệt độ khắc nghiệt, từ đó đảm bảo phản ứng bình thường của các quá trình nhiệt độ cao.

Trong các quá trình khuếch tán, cacbua Tantalum xốp có thể đóng vai trò là rào cản khuếch tán hiệu quả để ngăn chặn sự trộn lẫn của vật liệu trong các quy trình nhiệt độ cao. Tính năng này thường được sử dụng để kiểm soát sự khuếch tán của chất dẫn xuất trong các quá trình như cấy ion và kiểm soát độ tinh khiết của tấm bán dẫn.

Cấu trúc xốp của cacbua Tantalum xốp bán dẫn VeTek rất phù hợp với môi trường xử lý chất bán dẫn yêu cầu kiểm soát hoặc lọc dòng khí chính xác. Trong quá trình này, xốp TaC chủ yếu đóng vai trò lọc và phân phối khí. Tính trơ hóa học của nó đảm bảo rằng không có chất gây ô nhiễm nào được đưa vào trong quá trình lọc. Điều này đảm bảo hiệu quả độ tinh khiết của sản phẩm được chế biến.