Trung Quốc Quy trình epitaxy SiC Nhà sản xuất, nhà cung cấp, nhà máy

Lớp phủ cacbua độc đáo của VeTek Semiconductor cung cấp khả năng bảo vệ vượt trội cho các bộ phận than chì trong Quy trình Epit Wax SiC để xử lý các vật liệu bán dẫn tổng hợp và bán dẫn đòi hỏi khắt khe. Kết quả là tuổi thọ của thành phần than chì được kéo dài, bảo toàn tính năng cân bằng hóa học của phản ứng, ức chế sự di chuyển tạp chất đối với các ứng dụng tăng trưởng tinh thể và epitaxy, dẫn đến tăng năng suất và chất lượng.

Lớp phủ cacbua tantalum (TaC) của chúng tôi bảo vệ các thành phần lò phản ứng và lò phản ứng quan trọng ở nhiệt độ cao (lên đến 2200°C) khỏi amoniac nóng, hydro, hơi silicon và kim loại nóng chảy. VeTek Semiconductor có nhiều khả năng xử lý và đo lường than chì để đáp ứng các yêu cầu tùy chỉnh của bạn, vì vậy chúng tôi có thể cung cấp lớp phủ trả phí hoặc dịch vụ đầy đủ, với đội ngũ kỹ sư chuyên gia của chúng tôi sẵn sàng thiết kế giải pháp phù hợp cho bạn và ứng dụng cụ thể của bạn .

Tinh thể bán dẫn phức hợp

VeTek Semiconductor có thể cung cấp lớp phủ TaC đặc biệt cho nhiều linh kiện và vật mang khác nhau. Thông qua quy trình phủ hàng đầu trong ngành của VeTek Semiconductor, lớp phủ TaC có thể đạt được độ tinh khiết cao, độ ổn định ở nhiệt độ cao và khả năng kháng hóa chất cao, nhờ đó cải thiện chất lượng sản phẩm của các lớp tinh thể TaC/GaN) và lớp EPl, đồng thời kéo dài tuổi thọ của các thành phần lò phản ứng quan trọng.

Chất cách nhiệt

Các thành phần tăng trưởng tinh thể SiC, GaN và AlN bao gồm nồi nấu kim loại, giá đỡ hạt giống, bộ làm lệch hướng và bộ lọc. Các bộ phận lắp ráp công nghiệp bao gồm các bộ phận làm nóng bằng điện trở, vòi phun, vòng chắn và thiết bị hàn, các bộ phận lò phản ứng CVD epiticular GaN và SiC bao gồm các chất mang wafer, khay vệ tinh, đầu vòi hoa sen, nắp và bệ, các bộ phận MOCVD.

Mục đích:

Chất mang wafer LED (Điốt phát sáng)

Bộ thu ALD (Bán dẫn)

Receptor EPI (Quy trình Epit Wax SiC)

Bộ cảm biến vệ tinh được phủ TaC Vòng & vòng cảm ứng lớp phủ TaC Bộ phận phủ TaC Các bộ phận Halfmoon có lớp phủ TaC

So sánh lớp phủ SiC và lớp phủ TaC:

	SiC	TaC
Những đặc điểm chính	Độ tinh khiết cực cao, kháng Plasma tuyệt vời	Độ ổn định nhiệt độ cao tuyệt vời (phù hợp quy trình nhiệt độ cao)
độ tinh khiết	>99,9999%	>99,9999%
Mật độ (g/cm3)	3.21	15
Độ cứng (kg/mm2)	2900-3300	6,7-7,2
Điện trở suất [Ωcm]	0,1-15.000	<1
Độ dẫn nhiệt (W/m-K)	200-360	22
Hệ số giãn nở nhiệt (10-6/oC)	4,5-5	6.3
Ứng dụng	Thiết bị bán dẫn Đồ gá gốm (Vòng lấy nét, Đầu vòi hoa sen, Tấm wafer giả)	SiC Tăng trưởng tinh thể đơn, Epi, UV LED

View as

Chất mang wafer phủ CVD TaC

Là nhà sản xuất và nhà máy sản xuất sản phẩm tấm wafer phủ CVD TaC chuyên nghiệp tại Trung Quốc, VeTek Semiconductor CVD TaC Coating wafer Carrier là một công cụ mang wafer được thiết kế đặc biệt cho môi trường ăn mòn và nhiệt độ cao trong sản xuất chất bán dẫn. Sản phẩm này có độ bền cơ học cao, khả năng chống ăn mòn và ổn định nhiệt tuyệt vời, mang lại sự đảm bảo cần thiết cho việc sản xuất các thiết bị bán dẫn chất lượng cao. Yêu cầu thêm của bạn đều được chào đón.

Đọc thêm Gửi yêu cầu

Máy sưởi lớp phủ TaC

VeTek Semiconductor là nhà sản xuất và cải tiến hàng đầu về Máy sưởi lớp phủ TaC tại Trung Quốc. Sản phẩm này có điểm nóng chảy cực cao (khoảng 3880°C). Điểm nóng chảy cao của Lò gia nhiệt lớp phủ TaC cho phép nó hoạt động ở nhiệt độ cực cao, đặc biệt là trong sự phát triển của các lớp epiticular gallium nitride (GaN) trong quá trình lắng đọng hơi hóa học hữu cơ kim loại (MOCVD). VeTek Semiconductor cam kết cung cấp các giải pháp công nghệ và sản phẩm tiên tiến cho ngành bán dẫn. Chúng tôi mong muốn trở thành đối tác lâu dài của bạn tại Trung Quốc.

Đọc thêm Gửi yêu cầu

Chuck phủ TaC

Là nhà sản xuất và cung cấp Chuck phủ TaC chuyên nghiệp tại Trung Quốc, Chuck phủ TaC của VeTek Semiconductor được thiết kế đặc biệt cho lò nung bán dẫn. Với khả năng chịu nhiệt độ cao, độ trơ hóa học và hiệu suất tuyệt vời, công nghệ tiên tiến của Vetek Semiconductor cung cấp giải pháp đáng tin cậy cho ngành sản xuất chất bán dẫn để đảm bảo tiêu chuẩn sản xuất chất lượng cao. Chúng tôi tin rằng sản phẩm của chúng tôi có thể mang đến cho bạn những giải pháp công nghệ tiên tiến và sản phẩm chất lượng cao.

Đọc thêm Gửi yêu cầu

Ống phủ TaC

Là nhà sản xuất và cung cấp Ống phủ TaC chuyên nghiệp tại Trung Quốc, ống phủ TaC của VeTek Semiconductor là thành phần quan trọng cho sự phát triển thành công của các tinh thể đơn cacbua silic. Với khả năng chịu nhiệt độ cao, độ trơ hóa học và hiệu suất tuyệt vời, nó đảm bảo sản xuất các tinh thể chất lượng cao với kết quả nhất quán. Hãy tin tưởng vào các giải pháp sáng tạo của chúng tôi để nâng cao quá trình phát triển tinh thể SiC theo phương pháp PVT của bạn và đạt được kết quả xuất sắc. Chào mừng bạn đến hỏi chúng tôi.

Đọc thêm Gửi yêu cầu

Lớp phủ CVD TAC

VeTek Semiconductor là nhà sản xuất, nhà đổi mới và dẫn đầu về Lớp phủ CVD TAC tại Trung Quốc. Trong nhiều năm, chúng tôi đã tập trung vào các sản phẩm Lớp phủ CVD TAC khác nhau như lớp phủ CVD TaC, Vòng phủ CVD TaC, chất mang lớp phủ CVD TaC, v.v. VeTek Semiconductor hỗ trợ các dịch vụ sản phẩm tùy chỉnh và giá sản phẩm vừa ý, đồng thời mong nhận được sự hỗ trợ tiếp theo của bạn tư vấn.

Đọc thêm Gửi yêu cầu

Phụ tùng lớp phủ TaC

VeTek Semiconductor là nhà sản xuất chuyên nghiệp về Tấm phủ TaC và các phụ tùng Lớp phủ TaC khác tại Trung Quốc. Lớp phủ TaC hiện được sử dụng chủ yếu trong các quá trình như tăng trưởng đơn tinh thể silicon cacbua (phương pháp PVT), đĩa epiticular (bao gồm epit Wax silicon cacbua, epit Wax LED), v.v. Kết hợp với tính ổn định lâu dài tốt của Tấm phủ TaC, VeTek Semiconductor TaC Tấm phủ đã trở thành tiêu chuẩn cho các phụ tùng Lớp phủ TaC. Chúng tôi mong muốn bạn trở thành đối tác lâu dài của chúng tôi.

Đọc thêm Gửi yêu cầu

<1 2 3 4 5...6 >

Là nhà sản xuất và nhà cung cấp Quy trình epitaxy SiC chuyên nghiệp ở Trung Quốc, chúng tôi có nhà máy riêng. Cho dù bạn cần các dịch vụ tùy chỉnh để đáp ứng nhu cầu cụ thể trong khu vực của mình hay muốn mua Quy trình epitaxy SiC cao cấp và bền bỉ được sản xuất tại Trung Quốc, bạn đều có thể để lại tin nhắn cho chúng tôi.