Vỏ bọc cacbua tantali
  • Vỏ bọc cacbua tantaliVỏ bọc cacbua tantali

Vỏ bọc cacbua tantali

VeTek Semiconductor là nhà sản xuất và cải tiến Vỏ phủ Tantalum Carbide hàng đầu tại Trung Quốc. Chúng tôi đã chuyên về lớp phủ TaC và SiC trong nhiều năm. Sản phẩm của chúng tôi có khả năng chống ăn mòn, độ bền cao. Chúng tôi mong muốn trở thành đối tác lâu dài của bạn tại Trung Quốc.

Gửi yêu cầu

Mô tả Sản phẩm


Tìm rất nhiều loại Vỏ phủ Tantalum Carbide từ Trung Quốc tại VeTek Semiconductor. Cung cấp dịch vụ hậu mãi chuyên nghiệp và giá cả phù hợp, rất mong được hợp tác. Vỏ phủ Tantalum Carbide do VeTek Semiconductor phát triển là phụ kiện được thiết kế riêng cho hệ thống AIXTRON G10 MOCVD, nhằm mục đích tối ưu hóa hiệu quả và nâng cao chất lượng sản xuất chất bán dẫn. Nó được chế tạo tỉ mỉ bằng vật liệu chất lượng cao và được sản xuất với độ chính xác tối đa, đảm bảo hiệu suất và độ tin cậy vượt trội cho các quy trình lắng đọng hơi hóa học hữu cơ kim loại (MOCVD).


Được chế tạo bằng chất nền than chì phủ Tantalum cacbua (TaC) lắng đọng hơi hóa học (CVD), Vỏ phủ cacbua Tantalum mang lại độ ổn định nhiệt đặc biệt, độ tinh khiết cao và khả năng chịu nhiệt độ cao. Sự kết hợp vật liệu độc đáo này cung cấp giải pháp đáng tin cậy cho các điều kiện vận hành khắt khe của hệ thống MOCVD.


Vỏ phủ Tantalum Carbide có thể tùy chỉnh để phù hợp với nhiều kích thước tấm bán dẫn khác nhau, giúp nó phù hợp với các yêu cầu sản xuất đa dạng. Cấu trúc chắc chắn của nó được thiết kế đặc biệt để chịu được môi trường MOCVD đầy thách thức, đảm bảo hiệu suất lâu dài và giảm thiểu thời gian ngừng hoạt động cũng như chi phí bảo trì liên quan đến chất mang bán dẫn và bộ phận nhạy cảm.


Bằng cách kết hợp vỏ TaC vào hệ thống AIXTRON G10 MOCVD, các nhà sản xuất chất bán dẫn có thể đạt được hiệu quả cao hơn và kết quả vượt trội. Độ ổn định nhiệt đặc biệt, khả năng tương thích với các kích thước wafer khác nhau và hiệu suất đáng tin cậy của Đĩa hành tinh khiến nó trở thành công cụ không thể thiếu để tối ưu hóa hiệu quả sản xuất và đạt được kết quả vượt trội trong quy trình MOCVD.



Thông số sản phẩm của Vỏ phủ Tantalum Carbide

Tính chất vật lý của lớp phủ TaC
Tỉ trọng 14,3 (g/cm³)
Độ phát xạ cụ thể 0.3
Hệ số giãn nở nhiệt 6,3 10-6/K
Độ cứng (HK) 2000 HK
Sức chống cự 1×10-5Ohm*cm
Độ ổn định nhiệt <2500oC
Thay đổi kích thước than chì -10~-20um
độ dày lớp phủ ≥20um giá trị điển hình (35um±10um)


Hiệu suất của wafer sau khi sử dụng các thành phần của chúng tôi:

the Wafer performance after using our components


Xưởng sản xuất chất bán dẫn VeTek:

Tantalum Carbide Coated Cover shops


Tổng quan về chuỗi công nghiệp epitaxy chip bán dẫn:


Thẻ nóng: Vỏ bọc cacbua Tantalum, Trung Quốc, Nhà sản xuất, Nhà cung cấp, Nhà máy, Tùy chỉnh, Mua, Cao cấp, Bền, Sản xuất tại Trung Quốc
Danh mục liên quan
Gửi yêu cầu
Xin vui lòng gửi yêu cầu của bạn trong mẫu dưới đây. Chúng tôi sẽ trả lời bạn trong 24 giờ.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept