VeTek Semiconductor giới thiệu Chất cảm biến lớp phủ TaC. Với lớp phủ TaC đặc biệt, chất cảm ứng này mang lại vô số ưu điểm khiến nó khác biệt so với các giải pháp thông thường. Tích hợp hoàn toàn vào các hệ thống hiện có, Chất cảm ứng lớp phủ TaC của VeTek Semiconductor đảm bảo khả năng tương thích và hoạt động hiệu quả. Hiệu suất đáng tin cậy và lớp phủ TaC chất lượng cao của nó luôn mang lại kết quả đặc biệt trong quy trình epit Wax SiC. Chúng tôi cam kết cung cấp sản phẩm chất lượng với giá cả cạnh tranh và mong muốn trở thành đối tác lâu dài của bạn tại Trung Quốc.
Vòng và chất nhạy được phủ TaC của VeTek Semiconductor phối hợp với nhau trong lò phản ứng tăng trưởng epiticular silicon cacbua LPE:
Chịu nhiệt độ cao: Chất nhạy cảm lớp phủ TaC có khả năng chịu nhiệt độ cao tuyệt vời, có thể chịu được nhiệt độ khắc nghiệt lên tới 1500°C trong lò phản ứng LPE. Điều này đảm bảo thiết bị và linh kiện không bị biến dạng hoặc hư hỏng trong quá trình hoạt động lâu dài.
Độ ổn định hóa học: Chất nhạy cảm với lớp phủ TaC hoạt động cực kỳ tốt trong môi trường phát triển cacbua silic ăn mòn, bảo vệ hiệu quả các thành phần lò phản ứng khỏi sự tấn công của hóa chất ăn mòn, nhờ đó kéo dài tuổi thọ sử dụng của chúng.
Độ ổn định nhiệt: Chất nhạy cảm với lớp phủ TaC có độ ổn định nhiệt tốt, duy trì hình thái bề mặt và độ nhám để đảm bảo tính đồng nhất của trường nhiệt độ trong lò phản ứng, điều này có lợi cho sự phát triển chất lượng cao của các lớp epiticular silicon cacbua.
Chống ô nhiễm: Bề mặt được phủ TaC mịn và hiệu suất TPD (Giải hấp được lập trình theo nhiệt độ) vượt trội có thể giảm thiểu sự tích tụ và hấp phụ của các hạt và tạp chất bên trong lò phản ứng, ngăn ngừa ô nhiễm các lớp epitaxy.
Tóm lại, vòng và chất nhạy cảm được phủ TaC đóng vai trò bảo vệ quan trọng trong lò phản ứng tăng trưởng epiticular silicon cacbua LPE, đảm bảo thiết bị hoạt động ổn định lâu dài và sự phát triển chất lượng cao của các lớp epiticular.
Tính chất vật lý của lớp phủ TaC | |
Tỉ trọng | 14,3 (g/cm³) |
Độ phát xạ cụ thể | 0.3 |
Hệ số giãn nở nhiệt | 6,3 10-6/K |
Độ cứng (HK) | 2000 HK |
Sức chống cự | 1×10-5 Ôm*cm |
Ổn định nhiệt | <2500oC |
Thay đổi kích thước than chì | -10~-20um |
độ dày lớp phủ | ≥20um giá trị điển hình (35um±10um) |