Chất nhạy cảm ALD phủ SiC

Chất bán dẫn VeTekChất nhạy cảm ALD phủ SiCđóng một vai trò quan trọng trong sự lắng đọng lớp nguyên tử (ALD) quá trình. Kiểm soát nhiệt độ chính xác, phân phối khí đồng đều, kháng hóa chất cao và dẫn nhiệt tuyệt vời đảm bảo tính đồng nhất và chất lượng cao của quá trình lắng đọng màng. Nếu bạn muốn biết thêm, bạn có thể tham khảo ý kiến ​​của chúng tôi ngay lập tức và chúng tôi sẽ trả lời bạn kịp thời!

Kiểm soát nhiệt độ chính xác:

Chất nhạy cảm ALD phủ SiC thường có hệ thống kiểm soát nhiệt độ có độ chính xác cao. Nó có thể duy trì môi trường nhiệt độ đồng đều trong suốt quá trình lắng đọng, điều này rất quan trọng để đảm bảo tính đồng nhất và chất lượng của màng.

Phân phối khí đồng đều:

Thiết kế tối ưu của chất nhạy cảm ALD phủ SiC đảm bảo phân phối khí đồng đều trong quá trình lắng đọng ALD. Cấu trúc của nó thường bao gồm nhiều bộ phận quay hoặc chuyển động để thúc đẩy sự bao phủ đồng đều của khí phản ứng trên toàn bộ bề mặt wafer.

Kháng hóa chất cao:

Do quá trình ALD liên quan đến nhiều loại khí hóa học nên chất nhạy cảm ALD phủ SiC thường được làm bằng vật liệu chống ăn mòn (như bạch kim, gốm sứ hoặc thạch anh có độ tinh khiết cao) để chống lại sự ăn mòn của khí hóa học và ảnh hưởng của môi trường nhiệt độ cao.

Độ dẫn nhiệt tuyệt vời:

Để dẫn nhiệt hiệu quả và duy trì nhiệt độ lắng ổn định, chất nhạy ALD phủ SiC thường sử dụng vật liệu dẫn nhiệt cao. Điều này giúp tránh hiện tượng quá nhiệt cục bộ và lắng đọng không đều.

Tính chất vật lý cơ bản của lớp phủ CVD SiC:

Cửa hàng sản xuất:

Tổng quan về chuỗi công nghiệp epitaxy chip bán dẫn：