Bộ thu ALD

VeTek Semiconductor là nhà sản xuất chuyên nghiệp về Chất nhạy cảm ALD, lớp phủ CVD SiC, đế than chì CVD TAC COATING tại Trung Quốc. Vetek Semiconductor đã cùng phát triển và sản xuất các đế hành tinh ALD được phủ SiC với các nhà sản xuất hệ thống ALD để đáp ứng các yêu cầu cao của quy trình ALD và phân phối đều luồng không khí trên đế. Chúng tôi mong muốn được hợp tác hơn nữa với bạn.

Gửi yêu cầu

Mô tả Sản phẩm

Là một người chuyên nghiệpBộ thu ALDnhà sản xuất tại Trung Quốc, sản phẩm của chúng tôiBộ thu ALDKiểm soát nhiệt độ chính xác, phân phối khí đồng đều và độ dẫn nhiệt tuyệt vời cùng các đặc tính khác của sản phẩm xác định rằngBộ thu ALDđóng một vai trò quan trọng trong quá trình lắng đọng lớp nguyên tử (ALD). Vai trò quan trọng, hoan nghênh sự tư vấn của bạn.

Lắng đọng màng mỏng đồng đều: Chất nhạy cảm ALD đảm bảo sự lắng đọng đồng đều của các lớp nguyên tử trên toàn bộ bề mặt wafer trong quá trình lắng đọng lớp nguyên tử (ALD). Thiết kế xoay độc đáo của nó cho phép khí và chất phản ứng tiếp xúc đều với bề mặt wafer, dẫn đến độ dày màng đồng đều. Điều này rất quan trọng đối với việc sản xuất chất bán dẫn có độ chính xác cao.

Nâng cao chất lượng lắng đọng: Bằng cách tối ưu hóa việc kiểm soát nhiệt độ và phân phối khí, Chất nhạy cảm ALD cải thiện đáng kể chất lượng và hiệu suất của màng, giảm các khuyết tật và độ không đồng nhất. Điều này khiến nó trở nên lý tưởng cho việc sản xuất thiết bị điện tử và bán dẫn có độ chính xác cao, đảm bảo độ tin cậy và hiệu suất của sản phẩm.

Hỗ trợ xử lý đa wafer:Một số thiết kế có tính nhạy cảm ALD nhất định cho phép xử lý đồng thời nhiều tấm bán dẫn, giúp tăng hiệu quả sản xuất. Điều này đặc biệt quan trọng đối với môi trường sản xuất có năng suất cao, có khả năng đáp ứng nhu cầu sản xuất quy mô lớn.

Chứa các kích cỡ và loại wafer khác nhau:Các thiết bị cảm ứng ALD thường được thiết kế để có khả năng tương thích cao và có thể hỗ trợ các kích cỡ và loại tấm bán dẫn khác nhau. Điều này làm cho nó hiệu quả trong nhiều quy trình sản xuất, mang lại sự linh hoạt và khả năng thích ứng cao hơn.

Giảm chi phí sản xuất:Do khả năng phân phối khí hiệu quả và khả năng gia nhiệt đồng đều, Chất nhạy cảm ALD tăng hiệu quả của quá trình lắng đọng, từ đó giảm lãng phí vật liệu và chi phí sản xuất. Điều này không chỉ giúp nâng cao hiệu quả sản xuất mà còn giảm đáng kể chi phí sản xuất.

Tính chất vật lý cơ bản của lớp phủ CVD SiC: