- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Tin tức
Công nghệ epit Wax nhiệt độ thấp dựa trên GaN
Bài viết này chủ yếu mô tả công nghệ epiticular nhiệt độ thấp dựa trên GaN, bao gồm cấu trúc tinh thể của vật liệu dựa trên GaN, 3. các yêu cầu và giải pháp triển khai công nghệ epitaxy, ưu điểm của công nghệ epiticular nhiệt độ thấp dựa trên nguyên lý PVD và triển vọng phát triển của công nghệ epit......
Đọc thêm
Sự khác biệt giữa CVD TaC và TaC thiêu kết là gì?
Bài viết này lần đầu tiên giới thiệu cấu trúc phân tử và tính chất vật lý của TaC, đồng thời tập trung vào sự khác biệt và ứng dụng của cacbua tantalum thiêu kết và cacbua tantalum CVD, cũng như các sản phẩm lớp phủ TaC phổ biến của VeTek Semiconductor.
Đọc thêm
