Sự khác biệt giữa CVD TaC và TaC thiêu kết là gì?

1. Cacbua tantalum là gì?

Tantalum cacbua (TaC) là một hợp chất nhị phân bao gồm tantalum và carbon có công thức thực nghiệm TaCX, trong đó X thường thay đổi trong khoảng từ 0,4 đến 1. Chúng là vật liệu gốm chịu lửa dẫn điện bằng kim loại rất cứng, giòn. Chúng ở dạng bột màu xám nâu, thường được thiêu kết. Là một vật liệu gốm kim loại quan trọng, cacbua tantalum được sử dụng thương mại cho các dụng cụ cắt và đôi khi được thêm vào hợp kim cacbua vonfram.

Hình 1. Nguyên liệu thô cacbua tantali

Gốm cacbua tantali là một loại gốm chứa bảy pha tinh thể của cacbua tantalum. Công thức hóa học là TaC, mạng lập phương tâm mặt.

Hình 2.Cacbua tantali - Wikipedia

Mật độ lý thuyết là 1,44, điểm nóng chảy là 3730-3830oC, hệ số giãn nở nhiệt là 8,3×10-6, mô đun đàn hồi là 291GPa, độ dẫn nhiệt là 0,22J/cm·S·C và điểm nóng chảy cực đại của tantalum cacbua là khoảng 3880oC, tùy thuộc vào độ tinh khiết và điều kiện đo. Giá trị này là cao nhất trong số các hợp chất nhị phân.

Hình 3.Sự lắng đọng hơi hóa học của Tantalum cacbua trong TaBr5&ndash

2. Tantalum cacbua mạnh đến mức nào?

Bằng cách kiểm tra độ cứng Vickers, độ bền khi gãy và mật độ tương đối của một loạt mẫu, có thể xác định rằng TaC có các tính chất cơ học tốt nhất ở 5,5GPa và 1300oC. Mật độ tương đối, độ bền đứt gãy và độ cứng Vickers của TaC lần lượt là 97,7%, 7,4MPam1/2 và 21,0GPa.

Cacbua tantali còn được gọi là gốm cacbua tantalum, là một loại vật liệu gốm theo nghĩa rộng;các phương pháp điều chế cacbua tantalum bao gồmCVDphương pháp thiêu kết, v.v. Hiện nay, phương pháp CVD được sử dụng phổ biến hơn trong chất bán dẫn, có độ tinh khiết cao và giá thành cao.

3. So sánh giữa cacbua tantalum thiêu kết và cacbua tantalumCVD

Trong công nghệ xử lý chất bán dẫn, cacbua tantalum thiêu kết và cacbua tantalum lắng đọng hơi hóa học (CVD) là hai phương pháp phổ biến để điều chế cacbua tantalum, có sự khác biệt đáng kể trong quá trình chuẩn bị, cấu trúc vi mô, hiệu suất và ứng dụng.

3.1 Quá trình chuẩn bị

Cacbua tantalum thiêu kết: Bột cacbua tantali được thiêu kết dưới nhiệt độ cao và áp suất cao để tạo thành hình dạng. Quá trình này bao gồm việc làm đặc bột, tăng trưởng hạt và loại bỏ tạp chất.

Cacbua tantalum CVD: Tiền chất khí cacbua tantalum được sử dụng để phản ứng hóa học trên bề mặt chất nền được nung nóng, và màng cacbua tantalum được lắng đọng từng lớp. Quá trình CVD có khả năng kiểm soát độ dày màng tốt và tính đồng nhất về thành phần.

3.2 Cấu trúc vi mô

Cacbua tantalum thiêu kết: Nói chung, nó là một cấu trúc đa tinh thể với kích thước hạt và lỗ chân lông lớn. Cấu trúc vi mô của nó bị ảnh hưởng bởi các yếu tố như nhiệt độ thiêu kết, áp suất và đặc tính bột.

Cacbua tantalum CVD: Nó thường là một màng đa tinh thể dày đặc với kích thước hạt nhỏ và có thể đạt được sự tăng trưởng có định hướng cao. Cấu trúc vi mô của màng bị ảnh hưởng bởi các yếu tố như nhiệt độ lắng đọng, áp suất khí và thành phần pha khí.

3.3 Sự khác biệt về hiệu suất

Hình 4. Sự khác biệt về hiệu suất giữa TaC thiêu kết và TaCCVD

3.4 Ứng dụng

Cacbua tantalum thiêu kết: Do độ bền cao, độ cứng cao và khả năng chịu nhiệt độ cao, nó được sử dụng rộng rãi trong các dụng cụ cắt, các bộ phận chịu mài mòn, vật liệu kết cấu nhiệt độ cao và các lĩnh vực khác. Ví dụ, cacbua tantalum thiêu kết có thể được sử dụng để sản xuất các dụng cụ cắt như máy khoan và dao phay để cải thiện hiệu quả xử lý và chất lượng bề mặt bộ phận.

Cacbua tantalumCVD: Do đặc tính màng mỏng, độ bám dính và tính đồng nhất tốt nên nó được sử dụng rộng rãi trong các thiết bị điện tử, vật liệu phủ, chất xúc tác và các lĩnh vực khác. Ví dụ, cacbua tantalum CVD có thể được sử dụng làm chất kết nối cho mạch tích hợp, lớp phủ chống mài mòn và chất mang xúc tác.

-------------------------------------------------- -------------------------------------------------- -------------------------------------------------- -------------------------------------------------- -------------------------------------------------- ------------------------------

Là nhà sản xuất, nhà cung cấp và nhà máy lớp phủ tantalum cacbua, VeTek Semiconductor là nhà sản xuất hàng đầu về vật liệu phủ cacbua tantalum cho ngành bán dẫn.

Sản phẩm chính của chúng tôi bao gồmCác bộ phận được phủ cacbua tantalumCVD, các bộ phận được phủ TaC thiêu kết cho quá trình tăng trưởng tinh thể SiC hoặc quá trình epit Wax bán dẫn. Các sản phẩm chính của chúng tôi là Vòng dẫn hướng được phủ Tantalum Carbide, Vòng dẫn hướng được phủ TaC, Bộ phận nửa vầng trăng được phủ TaC, Đĩa quay hành tinh được phủ Tantalum Carbide (Aixtron G10), Nồi nấu kim loại được phủ TaC; Nhẫn tráng TaC; Than chì xốp phủ TaC; Chất nhạy cảm với than chì phủ tantalum cacbua; Vòng dẫn hướng được phủ TaC; Tấm phủ tantalum cacbua TaC; Chất nhạy cảm với tấm wafer được phủ TaC; Mũ than chì phủ TaC; Khối tráng TaC, v.v., có độ tinh khiết dưới 5ppm để đáp ứng yêu cầu của khách hàng.

Hình 5. Các sản phẩm lớp phủ TaC bán chạy của VeTek Semiconductor

VeTek Semiconductor cam kết trở thành nhà đổi mới trong ngành phủ Tantalum cacbua thông qua nghiên cứu và phát triển liên tục các công nghệ lặp đi lặp lại. 

Nếu bạn quan tâm đến sản phẩm của TaC, vui lòng liên hệ trực tiếp với chúng tôi.

Đám đông: +86-180 6922 0752

WhatsAPP: +86 180 6922 0752

Email: anny@veteksemi.com