Bạn biết bao nhiêu về CVD SiC?

CVD SiC(Cacbua silic lắng đọng hơi hóa học) là vật liệu cacbua silic có độ tinh khiết cao được sản xuất bằng phương pháp lắng đọng hơi hóa học. Nó chủ yếu được sử dụng cho các thành phần và lớp phủ khác nhau trong thiết bị xử lý chất bán dẫn.Vật liệu CVD SiCcó độ ổn định nhiệt tuyệt vời, độ cứng cao, hệ số giãn nở nhiệt thấp và khả năng chống ăn mòn hóa học tuyệt vời, khiến nó trở thành vật liệu lý tưởng để sử dụng trong các điều kiện quy trình khắc nghiệt.

Vật liệu CVD SiC được sử dụng rộng rãi trong các linh kiện có nhiệt độ cao, môi trường ăn mòn cao và ứng suất cơ học cao trong quá trình sản xuất chất bán dẫn,chủ yếu bao gồm các sản phẩm sau:

Lớp phủ CVD SiC:

Nó được sử dụng làm lớp bảo vệ cho thiết bị xử lý chất bán dẫn để ngăn chặn chất nền bị hư hỏng do nhiệt độ cao, ăn mòn hóa học và mài mòn cơ học.

Thuyền bánh xốp SiC:

Nó được sử dụng để mang và vận chuyển các tấm wafer trong các quá trình nhiệt độ cao (chẳng hạn như khuếch tán và tăng trưởng epiticular) để đảm bảo tính ổn định của các tấm wafer và tính đồng nhất của các quy trình.

Ống xử lý SiC:

Ống xử lý SiC chủ yếu được sử dụng trong lò khuếch tán và lò oxy hóa để cung cấp môi trường phản ứng có kiểm soát cho các tấm silicon, đảm bảo lắng đọng vật liệu chính xác và phân bố pha tạp đồng đều.

Mái chèo đúc hẫng SiC:

Mái chèo SiC Cantilever chủ yếu được sử dụng để vận chuyển hoặc đỡ các tấm silicon trong lò khuếch tán và lò oxy hóa, đóng vai trò chịu lực. Đặc biệt trong các quá trình nhiệt độ cao như khuếch tán, oxy hóa, ủ, v.v., nó đảm bảo sự ổn định và xử lý đồng đều các tấm silicon trong môi trường khắc nghiệt.

Đầu vòi hoa sen CVD SiC:

Nó được sử dụng như một thành phần phân phối khí trong thiết bị khắc plasma, với khả năng chống ăn mòn tuyệt vời và ổn định nhiệt để đảm bảo hiệu quả phân phối khí và ăn mòn đồng đều.

Trần phủ SiC:

Các thành phần trong buồng phản ứng của thiết bị, được sử dụng để bảo vệ thiết bị khỏi bị hư hỏng do nhiệt độ cao và khí ăn mòn, đồng thời kéo dài tuổi thọ của thiết bị.

Chất nhạy cảm epitaxy silicon:

Chất mang wafer được sử dụng trong các quá trình tăng trưởng epiticular silicon để đảm bảo chất lượng gia nhiệt và lắng đọng đồng đều của các tấm wafer.

Cacbua silic lắng đọng hơi hóa học (CVD SiC) có nhiều ứng dụng trong xử lý chất bán dẫn, chủ yếu được sử dụng để sản xuất các thiết bị và linh kiện có khả năng chịu nhiệt độ cao, ăn mòn và độ cứng cao.Vai trò cốt lõi của nó được thể hiện ở các khía cạnh sau:

Lớp phủ bảo vệ trong môi trường nhiệt độ cao:

Chức năng: CVD SiC thường được sử dụng để phủ bề mặt các bộ phận quan trọng trong thiết bị bán dẫn (như chất siêu âm, lớp lót buồng phản ứng, v.v.). Các thành phần này cần hoạt động trong môi trường nhiệt độ cao và lớp phủ CVD SiC có thể mang lại độ ổn định nhiệt tuyệt vời để bảo vệ chất nền khỏi hư hỏng ở nhiệt độ cao.

Ưu điểm: Điểm nóng chảy cao và khả năng dẫn nhiệt tuyệt vời của CVD SiC đảm bảo các bộ phận có thể hoạt động ổn định trong thời gian dài trong điều kiện nhiệt độ cao, kéo dài tuổi thọ của thiết bị.

Ứng dụng chống ăn mòn:

Chức năng: Trong quy trình sản xuất chất bán dẫn, lớp phủ CVD SiC có thể chống lại sự ăn mòn của khí và hóa chất ăn mòn một cách hiệu quả, đồng thời bảo vệ tính toàn vẹn của thiết bị và dụng cụ. Điều này đặc biệt quan trọng để xử lý các loại khí có tính ăn mòn cao như florua và clorua.

Ưu điểm: Bằng cách phủ lớp phủ CVD SiC lên bề mặt linh kiện, hư hỏng thiết bị và chi phí bảo trì do ăn mòn có thể giảm đáng kể và hiệu quả sản xuất có thể được cải thiện.

Ứng dụng chịu mài mòn và cường độ cao:

Chức năng: Vật liệu CVD SiC được biết đến với độ cứng cao và độ bền cơ học cao. Nó được sử dụng rộng rãi trong các thành phần bán dẫn yêu cầu khả năng chống mài mòn và độ chính xác cao, chẳng hạn như phốt cơ khí, các bộ phận chịu tải, v.v. Các thành phần này phải chịu ứng suất cơ học và ma sát mạnh trong quá trình vận hành. CVD SiC có thể chống lại những áp lực này một cách hiệu quả và đảm bảo tuổi thọ lâu dài cũng như hiệu suất ổn định của thiết bị.

Ưu điểm: Các thành phần làm từ CVD SiC không chỉ có thể chịu được ứng suất cơ học trong môi trường khắc nghiệt mà còn duy trì độ ổn định kích thước và độ hoàn thiện bề mặt sau thời gian sử dụng lâu dài.

Đồng thời, CVD SiC đóng một vai trò quan trọng trongTăng trưởng epiticular LED, chất bán dẫn điện và các lĩnh vực khác. Trong quy trình sản xuất chất bán dẫn, chất nền CVD SiC thường được sử dụng làmNGƯỜI TÁC GIẢ EPI. Độ dẫn nhiệt tuyệt vời và tính ổn định hóa học của chúng làm cho các lớp epitaxy phát triển có chất lượng và tính nhất quán cao hơn. Ngoài ra, CVD SiC còn được sử dụng rộng rãi trongChất mang khắc PSS, Chất mang wafer RTP, Chất mang khắc ICP, v.v., cung cấp sự hỗ trợ ổn định và đáng tin cậy trong quá trình khắc chất bán dẫn để đảm bảo hiệu suất của thiết bị.

Công ty TNHH Công nghệ bán dẫn VeTek là nhà cung cấp hàng đầu các vật liệu phủ tiên tiến cho ngành bán dẫn. Công ty chúng tôi tập trung vào việc phát triển các giải pháp tiên tiến cho ngành.

Các sản phẩm chính của chúng tôi bao gồm lớp phủ cacbua silic CVD (SiC), lớp phủ tantalum cacbua (TaC), SiC số lượng lớn, bột SiC và vật liệu SiC có độ tinh khiết cao, chất nhạy cảm than chì được phủ SiC, gia nhiệt trước, vòng chuyển hướng được phủ TaC, bán nguyệt, các bộ phận cắt, v.v. ., độ tinh khiết dưới 5ppm, vòng cắt có thể đáp ứng yêu cầu của khách hàng.

Chất bán dẫn VeTek tập trung phát triển các giải pháp phát triển sản phẩm và công nghệ tiên tiến cho ngành bán dẫn.Chúng tôi chân thành hy vọng trở thành đối tác lâu dài của bạn tại Trung Quốc.