Xi lanh than chì CVD SiC

Xi lanh than chì CVD SiC của Vetek Semiconductor đóng vai trò then chốt trong thiết bị bán dẫn, đóng vai trò như một lá chắn bảo vệ bên trong lò phản ứng để bảo vệ các bộ phận bên trong trong điều kiện cài đặt nhiệt độ và áp suất cao. Nó bảo vệ hiệu quả chống lại hóa chất và nhiệt độ cực cao, bảo vệ tính toàn vẹn của thiết bị. Với khả năng chống mài mòn và ăn mòn đặc biệt, nó đảm bảo tuổi thọ và độ ổn định trong môi trường đầy thách thức. Việc sử dụng các vỏ này giúp nâng cao hiệu suất của thiết bị bán dẫn, kéo dài tuổi thọ và giảm thiểu các yêu cầu bảo trì cũng như rủi ro hư hỏng. Chào mừng bạn đến hỏi chúng tôi.

Gửi yêu cầu

Mô tả Sản phẩm

Xi lanh than chì CVD SiC của Vetek Semiconductor đóng vai trò quan trọng trong thiết bị bán dẫn. Nó thường được sử dụng làm vỏ bảo vệ bên trong lò phản ứng để bảo vệ các bộ phận bên trong của lò phản ứng trong môi trường nhiệt độ cao và áp suất cao. Lớp vỏ bảo vệ này có thể cách ly hiệu quả các hóa chất và nhiệt độ cao trong lò phản ứng, ngăn chúng gây hư hỏng thiết bị. Đồng thời, Xi lanh than chì CVD SiC còn có khả năng chống mài mòn và ăn mòn tuyệt vời, giúp nó có thể duy trì sự ổn định và độ bền lâu dài trong môi trường làm việc khắc nghiệt. Bằng cách sử dụng vỏ bảo vệ làm bằng vật liệu này, hiệu suất và độ tin cậy của thiết bị bán dẫn có thể được cải thiện, kéo dài tuổi thọ của thiết bị đồng thời giảm nhu cầu bảo trì và nguy cơ hư hỏng.

Xi lanh than chì CVD SiC có nhiều ứng dụng trong thiết bị bán dẫn, bao gồm nhưng không giới hạn ở các khía cạnh sau:

Thiết bị xử lý nhiệt: Xi lanh than chì CVD SiC có thể được sử dụng làm vỏ bảo vệ hoặc tấm chắn nhiệt trong thiết bị xử lý nhiệt để bảo vệ các bộ phận bên trong khỏi nhiệt độ cao đồng thời mang lại khả năng chịu nhiệt độ cao tuyệt vời.

Lò phản ứng lắng đọng hơi hóa học (CVD): Trong lò phản ứng CVD, Xi lanh than chì CVD SiC có thể được sử dụng làm vỏ bảo vệ cho buồng phản ứng hóa học, cách ly hiệu quả chất phản ứng và mang lại khả năng chống ăn mòn.

Ứng dụng trong môi trường ăn mòn: Do khả năng chống ăn mòn tuyệt vời, Xi lanh than chì CVD SiC có thể được sử dụng trong môi trường bị ăn mòn hóa học, chẳng hạn như môi trường khí ăn mòn hoặc chất lỏng trong quá trình sản xuất chất bán dẫn.

Thiết bị tăng trưởng chất bán dẫn: Vỏ bảo vệ hoặc các thành phần khác được sử dụng trong thiết bị tăng trưởng bán dẫn để bảo vệ thiết bị khỏi nhiệt độ cao, ăn mòn và mài mòn hóa học nhằm đảm bảo độ ổn định và độ tin cậy lâu dài của thiết bị.

Độ ổn định nhiệt độ cao, chống ăn mòn, tính chất cơ học tuyệt vời, tính dẫn nhiệt. Với những hiệu suất tuyệt vời này, nó giúp tản nhiệt hiệu quả hơn trong các thiết bị bán dẫn, duy trì sự ổn định và hiệu suất của thiết bị.

Tính chất vật lý cơ bản của lớp phủ CVD SiC:

Tính chất vật lý cơ bản của lớp phủ CVD SiC
Tài sản	Giá trị điển hình
Cấu trúc tinh thể	FCC đa tinh thể pha β, chủ yếu định hướng (111)
Tỉ trọng	3,21 g/cm³
độ cứng	Độ cứng 2500 Vickers (tải 500g)
kích thước hạt	2 ~ 10μm
Độ tinh khiết hóa học	99,99995%
Công suất nhiệt	640 J·kg-1·K-1
Nhiệt độ thăng hoa	2700oC
Độ bền uốn	415 MPa RT 4 điểm
Mô-đun của Young	Uốn cong 430 Gpa 4pt, 1300oC
Độ dẫn nhiệt	300W·m-1·K-1
Mở rộng nhiệt (CTE)	4,5×10-6K-1