Chất mang lớp phủ CVD TaC

Chất mang Lớp phủ CVD TaC của VeTek Semiconductor được thiết kế chủ yếu cho quy trình sản xuất chất bán dẫn epiticular. Điểm nóng chảy cực cao của nhà cung cấp lớp phủ CVD TaC, khả năng chống ăn mòn tuyệt vời và độ ổn định nhiệt vượt trội quyết định tính không thể thiếu của sản phẩm này trong quy trình epiticular bán dẫn. Chúng tôi chân thành hy vọng xây dựng mối quan hệ kinh doanh lâu dài với bạn.

Gửi yêu cầu

Mô tả Sản phẩm

VeTek Semiconductor là nhà cung cấp lớp phủ CVD TaC chuyên nghiệp hàng đầu Trung Quốc, EPITAXY SUSCEPTOR,Máy thu than chì phủ TaCnhà sản xuất.

Thông qua nghiên cứu đổi mới vật liệu và quy trình liên tục, chất mang lớp phủ CVD TaC của Vetek Semiconductor đóng một vai trò rất quan trọng trong quy trình epiticular, chủ yếu bao gồm các khía cạnh sau:

Bảo vệ bề mặt: Chất mang phủ CVD TaC mang lại độ ổn định hóa học và ổn định nhiệt tuyệt vời, ngăn chặn hiệu quả nhiệt độ cao và khí ăn mòn làm xói mòn lớp nền và thành trong của lò phản ứng, đảm bảo độ tinh khiết và ổn định của môi trường xử lý.

Độ đồng đều nhiệt: Kết hợp với độ dẫn nhiệt cao của chất mang lớp phủ CVD TaC, nó đảm bảo sự phân bố nhiệt độ đồng đều trong lò phản ứng, tối ưu hóa chất lượng tinh thể và độ đồng đều về độ dày của lớp epiticular, đồng thời nâng cao tính nhất quán hiệu suất của sản phẩm cuối cùng.

Kiểm soát ô nhiễm hạt: Vì chất mang được phủ CVD TaC có tốc độ tạo hạt cực thấp nên đặc tính bề mặt nhẵn làm giảm đáng kể nguy cơ nhiễm bẩn hạt, từ đó cải thiện độ tinh khiết và năng suất trong quá trình tăng trưởng epiticular.

Tuổi thọ thiết bị kéo dài: Kết hợp với khả năng chống mài mòn và chống ăn mòn tuyệt vời của chất mang lớp phủ CVD TaC, nó giúp kéo dài đáng kể tuổi thọ sử dụng của các bộ phận trong buồng phản ứng, giảm thời gian ngừng hoạt động của thiết bị và chi phí bảo trì, đồng thời cải thiện hiệu quả sản xuất.

Kết hợp các đặc điểm trên, chất mang Lớp phủ CVD TaC của VeTek Semiconductor không chỉ cải thiện độ tin cậy của quy trình và chất lượng của sản phẩm trong quy trình tăng trưởng epiticular mà còn cung cấp giải pháp tiết kiệm chi phí cho sản xuất chất bán dẫn.

Lớp phủ cacbua tantali trên mặt cắt cực nhỏ:

Tantalum carbide coating on a microscopic cross section picture

Tính chất vật lý của chất mang phủ CVD TaC:

Tính chất vật lý của lớp phủ TaC
Tỉ trọng	14,3 (g/cm³)
Độ phát xạ cụ thể	0.3
Hệ số giãn nở nhiệt	6,3 * 10^-6/K
Độ cứng (HK)	2000 HK
Sức chống cự	1×10^-5Ohm*cm
Độ ổn định nhiệt	<2500oC
Thay đổi kích thước than chì	-10~-20um
độ dày lớp phủ	≥20um giá trị điển hình (35um±10um)