Cacbua silic rắn bán dẫn VeTek là một thành phần gốm quan trọng trong thiết bị khắc plasma, cacbua silic rắn (Cacbua silic CVD) các bộ phận trong thiết bị khắc bao gồmvòng tập trung, vòi hoa sen gas, khay, vòng cạnh, v.v. Do khả năng phản ứng và độ dẫn thấp của cacbua silic rắn (cacbua silic CVD) với clo - và các khí ăn mòn có chứa flo, nên nó là vật liệu lý tưởng cho các vòng lấy nét của thiết bị khắc plasma và các loại khác thành phần.
Ví dụ, vòng lấy nét là một bộ phận quan trọng được đặt bên ngoài wafer và tiếp xúc trực tiếp với wafer, bằng cách đặt một điện áp vào vòng để tập trung plasma đi qua vòng, từ đó tập trung plasma vào wafer để cải thiện tính đồng nhất của xử lý. Vòng lấy nét truyền thống được làm bằng silicon hoặcthạch anh, silicon dẫn điện là vật liệu vòng lấy nét thông thường, nó gần giống với độ dẫn điện của tấm silicon, nhưng nhược điểm là khả năng chống ăn mòn kém trong plasma chứa flo, vật liệu bộ phận máy khắc thường được sử dụng trong một thời gian, sẽ có những vấn đề nghiêm trọng hiện tượng ăn mòn, làm giảm nghiêm trọng hiệu quả sản xuất.
SVòng lấy nét SiC olidNguyên tắc làm việc:
So sánh Vòng lấy nét dựa trên Si và Vòng lấy nét CVD SiC:
So sánh Vòng lấy nét dựa trên Si và Vòng lấy nét CVD SiC | ||
Mục | Và | CVD SiC |
Mật độ (g/cm3) | 2.33 | 3.21 |
Khoảng cách băng tần (eV) | 1.12 | 2.3 |
Độ dẫn nhiệt (W/cmoC) | 1.5 | 5 |
CTE (x10-6/oC) | 2.6 | 4 |
Mô đun đàn hồi (GPa) | 150 | 440 |
Độ cứng (GPa) | 11.4 | 24.5 |
Khả năng chống mài mòn và ăn mòn | Nghèo | Xuất sắc |
VeTek Semiconductor cung cấp các bộ phận cacbua silic rắn (cacbua silic CVD) tiên tiến như vòng lấy nét SiC cho thiết bị bán dẫn. Vòng tập trung cacbua silic rắn của chúng tôi vượt trội hơn silicon truyền thống về độ bền cơ học, khả năng kháng hóa chất, tính dẫn nhiệt, độ bền ở nhiệt độ cao và khả năng chống ăn mòn ion.
Mật độ cao để giảm tỷ lệ ăn mòn.
Cách nhiệt tuyệt vời với dải tần cao.
Độ dẫn nhiệt cao và hệ số giãn nở nhiệt thấp.
Khả năng chống va đập cơ học và độ đàn hồi cao.
Độ cứng cao, chống mài mòn và chống ăn mòn.
Được sản xuất bằng cách sử dụnglắng đọng hơi hóa học tăng cường plasma (PECVD)kỹ thuật, vòng lấy nét SiC của chúng tôi đáp ứng nhu cầu ngày càng tăng của quy trình ăn mòn trong sản xuất chất bán dẫn. Chúng được thiết kế để chịu được năng lượng và năng lượng plasma cao hơn, đặc biệt trongplasma kết hợp điện dung (ĐCSTQ)hệ thống.
Vòng lấy nét SiC của VeTek Semiconductor mang lại hiệu suất và độ tin cậy vượt trội trong sản xuất thiết bị bán dẫn. Hãy chọn các thành phần SiC của chúng tôi để có chất lượng và hiệu quả vượt trội.
VeTek Semiconductor là nhà sản xuất và cải tiến Vòng lấy nét khắc SiC rắn hàng đầu tại Trung Quốc. Chúng tôi đã chuyên về vật liệu SiC trong nhiều năm. SiC rắn được chọn làm vật liệu vòng lấy nét do tính ổn định nhiệt hóa tuyệt vời, độ bền cơ học cao và khả năng chống lại plasma xói mòn. Chúng tôi mong muốn trở thành đối tác lâu dài của bạn tại Trung Quốc.
Đọc thêmGửi yêu cầu