Vetek Semiconductor chuyên tâm phát triển và thương mại hóa lớp phủ CVD SiC và lớp phủ CVD TaC. Như một minh họa, Phân đoạn vỏ phủ SiC của chúng tôi trải qua quá trình xử lý tỉ mỉ, tạo ra lớp phủ SiC CVD dày đặc với độ chính xác đặc biệt. Nó thể hiện khả năng chống chịu nhiệt độ cao vượt trội và mang lại khả năng bảo vệ mạnh mẽ chống ăn mòn. Chúng tôi hoan nghênh yêu cầu của bạn.
Bạn có thể yên tâm mua Phân đoạn vỏ phủ SiC từ nhà máy của chúng tôi.
Công nghệ micro LED đang phá vỡ hệ sinh thái LED hiện có bằng các phương pháp và cách tiếp cận mà cho đến nay chỉ thấy trong ngành công nghiệp LCD hoặc bán dẫn. Hệ thống Aixtron G5 MOCVD hỗ trợ hoàn hảo các yêu cầu mở rộng nghiêm ngặt này. Nó là một lò phản ứng MOCVD mạnh mẽ được thiết kế chủ yếu để tăng trưởng epitaxy GaN dựa trên silicon.
Aixtron G5 là hệ thống epitaxy đĩa hành tinh nằm ngang, chủ yếu bao gồm các thành phần như đĩa hành tinh phủ CVD SiC, bộ cảm biến MOCVD, phân đoạn vỏ phủ SiC, vòng phủ SiC, trần phủ SiC, vòng đỡ phủ SiC, đĩa phủ phủ SiC, Bộ thu khí xả phủ SiC, vòng đệm chốt, vòng đầu vào của bộ thu, v.v.
Là nhà sản xuất lớp phủ CVD SiC, VeTek Semiconductor cung cấp Phân đoạn vỏ phủ Aixtron G5 SiC. Những chất nhạy cảm này được làm bằng than chì có độ tinh khiết cao và có lớp phủ CVD SiC với tạp chất dưới 5ppm.
Các sản phẩm Phân đoạn lớp phủ phủ CVD SiC thể hiện khả năng chống ăn mòn tuyệt vời, tính dẫn nhiệt vượt trội và độ ổn định ở nhiệt độ cao. Những sản phẩm này có khả năng chống ăn mòn và oxy hóa hóa học một cách hiệu quả, đảm bảo độ bền và sự ổn định trong môi trường khắc nghiệt. Độ dẫn nhiệt vượt trội cho phép truyền nhiệt hiệu quả, nâng cao hiệu quả quản lý nhiệt. Với độ ổn định ở nhiệt độ cao và khả năng chống sốc nhiệt, lớp phủ CVD SiC có thể chịu được các điều kiện khắc nghiệt. Chúng ngăn chặn sự hòa tan và oxy hóa chất nền than chì, giảm ô nhiễm và nâng cao hiệu quả sản xuất cũng như chất lượng sản phẩm. Bề mặt lớp phủ phẳng và đồng đều tạo nền tảng vững chắc cho sự phát triển của màng, giảm thiểu các khuyết tật do mạng tinh thể không khớp và tăng cường độ kết tinh cũng như chất lượng của màng. Tóm lại, các sản phẩm than chì được phủ CVD SiC cung cấp các giải pháp vật liệu đáng tin cậy cho các ứng dụng công nghiệp khác nhau, kết hợp khả năng chống ăn mòn đặc biệt, tính dẫn nhiệt và độ ổn định ở nhiệt độ cao.
Tính chất vật lý cơ bản của lớp phủ CVD SiC | |
Tài sản | Giá trị điển hình |
Cấu trúc tinh thể | FCC đa tinh thể pha β, chủ yếu định hướng (111) |
Tỉ trọng | 3,21 g/cm³ |
độ cứng | Độ cứng 2500 Vickers (tải 500g) |
Kích thước hạt | 2 ~ 10μm |
Độ tinh khiết hóa học | 99,99995% |
Nhiệt dung | 640 J·kg-1·K-1 |
Nhiệt độ thăng hoa | 2700oC |
Độ bền uốn | 415 MPa RT 4 điểm |
Mô-đun của Young | Uốn cong 430 Gpa 4pt, 1300oC |
Dẫn nhiệt | 300W·m-1·K-1 |
Mở rộng nhiệt (CTE) | 4,5×10-6K-1 |