VeTek Semiconductor, nhà sản xuất lớp phủ CVD SiC có uy tín, mang đến cho bạn Trung tâm thu gom lớp phủ SiC tiên tiến trong hệ thống Aixtron G5 MOCVD. Các Trung tâm thu gom lớp phủ SiC này được thiết kế tỉ mỉ bằng than chì có độ tinh khiết cao và tự hào với lớp phủ CVD SiC tiên tiến, đảm bảo độ ổn định nhiệt độ cao, chống ăn mòn, độ tinh khiết cao. Rất mong được hợp tác với bạn!
Trung tâm thu gom lớp phủ SiC bán dẫn VeTek đóng vai trò quan trọng trong việc sản xuất quy trình EPI bán dẫn. Nó là một trong những thành phần chính được sử dụng để phân phối và kiểm soát khí trong buồng phản ứng epiticular. Chào mừng bạn đến hỏi chúng tôi về lớp phủ SiC và lớp phủ TaC trong nhà máy của chúng tôi.
Vai trò của Trung tâm thu gom lớp phủ SiC như sau:
Phân phối khí: Trung tâm thu gom lớp phủ SiC được sử dụng để đưa các loại khí khác nhau vào buồng phản ứng epiticular. Nó có nhiều cửa vào và cửa ra có thể phân phối các loại khí khác nhau đến các vị trí mong muốn để đáp ứng nhu cầu tăng trưởng epiticular cụ thể.
Kiểm soát khí: Trung tâm thu gom lớp phủ SiC đạt được khả năng kiểm soát chính xác từng loại khí thông qua các van và thiết bị kiểm soát dòng chảy. Việc kiểm soát khí chính xác này là cần thiết cho sự thành công của quá trình tăng trưởng epiticular nhằm đạt được nồng độ khí và tốc độ dòng chảy mong muốn, đảm bảo chất lượng và tính nhất quán của màng.
Tính đồng nhất: Thiết kế và bố trí vòng thu khí trung tâm giúp đạt được sự phân phối khí đồng đều. Thông qua đường dẫn khí và chế độ phân phối hợp lý, khí được trộn đều trong buồng phản ứng epiticular, để đạt được sự phát triển đồng đều của màng.
Trong sản xuất các sản phẩm epiticular, Trung tâm thu gom lớp phủ SiC đóng vai trò then chốt trong chất lượng, độ dày và tính đồng nhất của màng. Thông qua việc phân phối và kiểm soát khí thích hợp, Trung tâm thu gom lớp phủ SiC có thể đảm bảo tính ổn định và nhất quán của quá trình tăng trưởng epiticular, để thu được màng epitaxy chất lượng cao.
So với trung tâm thu gom than chì, Trung tâm thu gom được phủ SiC được cải thiện tính dẫn nhiệt, tăng cường độ trơ hóa học và khả năng chống ăn mòn vượt trội. Lớp phủ cacbua silic tăng cường đáng kể khả năng quản lý nhiệt của vật liệu than chì, dẫn đến độ đồng đều nhiệt độ tốt hơn và sự phát triển màng ổn định trong các quy trình epiticular. Ngoài ra, lớp phủ còn cung cấp một lớp bảo vệ chống ăn mòn hóa học, kéo dài tuổi thọ của các thành phần than chì. Nhìn chung, vật liệu than chì phủ cacbua silic có tính dẫn nhiệt, độ trơ hóa học và khả năng chống ăn mòn vượt trội, đảm bảo tăng cường độ ổn định và tăng trưởng màng chất lượng cao trong quy trình epiticular.
Tính chất vật lý cơ bản của lớp phủ CVD SiC | |
Tài sản | Giá trị điển hình |
Cấu trúc tinh thể | FCC đa tinh thể pha β, chủ yếu định hướng (111) |
Tỉ trọng | 3,21 g/cm³ |
độ cứng | Độ cứng 2500 Vickers (tải 500g) |
Kích thước hạt | 2 ~ 10μm |
Độ tinh khiết hóa học | 99,99995% |
Nhiệt dung | 640 J·kg-1·K-1 |
Nhiệt độ thăng hoa | 2700oC |
Độ bền uốn | 415 MPa RT 4 điểm |
Mô-đun của Young | Uốn cong 430 Gpa 4pt, 1300oC |
Dẫn nhiệt | 300W·m-1·K-1 |
Mở rộng nhiệt (CTE) | 4,5×10-6K-1 |