- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Các sản phẩm
VeTek là nhà sản xuất và cung cấp chuyên nghiệp tại Trung Quốc. Nhà máy của chúng tôi cung cấp Sợi carbon, Gốm sứ cacbua silic, Epit Wax cacbua silic, v.v. Nếu quan tâm đến sản phẩm của chúng tôi, bạn có thể hỏi ngay bây giờ và chúng tôi sẽ liên hệ lại với bạn ngay.
- View as
Vách ngăn phủ CVD SiC
Vách ngăn phủ CVD SiC của Vetek Semiconductor chủ yếu được sử dụng trong Si Epit Wax. Nó thường được sử dụng với thùng mở rộng silicon. Nó kết hợp nhiệt độ cao độc đáo và độ ổn định của Vách ngăn phủ CVD SiC, giúp cải thiện đáng kể sự phân bố luồng không khí đồng đều trong sản xuất chất bán dẫn. Chúng tôi tin rằng sản phẩm của chúng tôi có thể mang đến cho bạn Công nghệ tiên tiến và Giải pháp sản phẩm chất lượng cao.
Đọc thêmGửi yêu cầu
Xi lanh than chì CVD SiC
Xi lanh than chì CVD SiC của Vetek Semiconductor đóng vai trò then chốt trong thiết bị bán dẫn, đóng vai trò như một lá chắn bảo vệ bên trong lò phản ứng để bảo vệ các bộ phận bên trong trong điều kiện cài đặt nhiệt độ và áp suất cao. Nó bảo vệ hiệu quả chống lại hóa chất và nhiệt độ cực cao, bảo vệ tính toàn vẹn của thiết bị. Với khả năng chống mài mòn và ăn mòn đặc biệt, nó đảm bảo tuổi thọ và độ ổn định trong môi trường đầy thách thức. Việc sử dụng các vỏ này giúp nâng cao hiệu suất của thiết bị bán dẫn, kéo dài tuổi thọ và giảm thiểu các yêu cầu bảo trì cũng như rủi ro hư hỏng. Chào mừng bạn đến hỏi chúng tôi.
Đọc thêmGửi yêu cầu
Vòi phun phủ CVD SiC
Đầu phun phủ CVD SiC của Vetek Semiconductor là thành phần quan trọng được sử dụng trong quy trình epit Wax LPE SiC để lắng đọng vật liệu cacbua silic trong quá trình sản xuất chất bán dẫn. Những vòi phun này thường được làm bằng vật liệu cacbua silic ổn định về mặt hóa học và nhiệt độ cao để đảm bảo sự ổn định trong môi trường xử lý khắc nghiệt. Được thiết kế để lắng đọng đồng đều, chúng đóng vai trò quan trọng trong việc kiểm soát chất lượng và tính đồng nhất của các lớp epiticular được trồng trong các ứng dụng bán dẫn. Mong muốn được hợp tác lâu dài với bạn.
Đọc thêmGửi yêu cầu
Bảo vệ lớp phủ CVD SiC
Vetek Semiconductor cung cấp Chất bảo vệ lớp phủ CVD SiC được sử dụng là epit Wax LPE SiC. Thuật ngữ "LPE" thường dùng để chỉ Epit Wax áp suất thấp (LPE) trong lắng đọng hơi hóa học áp suất thấp (LPCVD). Trong sản xuất chất bán dẫn, LPE là một công nghệ xử lý quan trọng để phát triển các màng mỏng đơn tinh thể, thường được sử dụng để phát triển các lớp epiticular silicon hoặc các lớp epiticular bán dẫn khác. Xin đừng ngần ngại liên hệ với chúng tôi để có thêm câu hỏi.
Đọc thêmGửi yêu cầu
Bệ phủ SiC
Vetek Semiconductor chuyên chế tạo lớp phủ CVD SiC, lớp phủ TaC trên vật liệu than chì và cacbua silic. Chúng tôi cung cấp các sản phẩm OEM và ODM như Bệ phủ SiC, chất mang wafer, mâm cặp wafer, khay mang wafer, đĩa hành tinh, v.v. Với phòng sạch và thiết bị lọc cấp 1000, chúng tôi có thể cung cấp cho bạn các sản phẩm có tạp chất dưới 5ppm. Rất mong được lắng nghe từ bạn sớm.
Đọc thêmGửi yêu cầu
Vòng đầu vào phủ SiC
Vetek Semiconductor vượt trội trong việc hợp tác chặt chẽ với khách hàng để tạo ra các thiết kế riêng cho Vòng đầu vào có lớp phủ SiC phù hợp với nhu cầu cụ thể. Những vòng đầu vào lớp phủ SiC này được thiết kế tỉ mỉ cho các ứng dụng đa dạng như thiết bị CVD SiC và epitaxy cacbua silic. Để có các giải pháp Vòng đầu vào lớp phủ SiC phù hợp, đừng ngần ngại liên hệ với Vetek Semiconductor để được hỗ trợ cá nhân.
Đọc thêmGửi yêu cầu
