Đột phá về công nghệ cacbua tantali, ô nhiễm epiticular SiC giảm 75%?

Gần đây, viện nghiên cứu Fraunhofer IISB của Đức đã có bước đột phá trong nghiên cứu và phát triểncông nghệ phủ cacbua tantalum, đồng thời phát triển giải pháp phun sơn linh hoạt và thân thiện với môi trường hơn giải pháp lắng đọng CVD và đã được thương mại hóa.

Và chất bán dẫn vetek trong nước cũng đã có những bước đột phá trong lĩnh vực này, chi tiết vui lòng xem bên dưới.

Fraunhofer IISB:

Phát triển công nghệ phủ TaC mới

Vào ngày 5 tháng 3, theo truyền thông "Chất bán dẫn phức hợp", Fraunhofer IISB đã phát triển một phương pháp mớiCông nghệ phủ tantalum cacbua (TaC)-Taccotta. Giấy phép công nghệ đã được chuyển giao cho Tập đoàn Nippon Kornmeyer Carbon (NKCG) và NKCG đã bắt đầu cung cấp các bộ phận than chì phủ TaC cho khách hàng của họ.

Phương pháp truyền thống để sản xuất lớp phủ TaC trong ngành là lắng đọng hơi hóa học (CVD), phương pháp này gặp phải những nhược điểm như chi phí sản xuất cao và thời gian giao hàng dài. Ngoài ra, phương pháp CVD còn dễ bị nứt TaC trong quá trình gia nhiệt và làm nguội linh kiện nhiều lần. Những vết nứt này làm lộ ra lớp than chì bên dưới, lớp than chì này xuống cấp nghiêm trọng theo thời gian và cần được thay thế.

Điểm đổi mới của Taccotta là sử dụng phương pháp phun sơn gốc nước, sau đó xử lý nhiệt độ để tạo thành lớp phủ TaC có độ ổn định cơ học cao và độ dày có thể điều chỉnh được trên bề mặt.chất nền than chì. Độ dày của lớp phủ có thể được điều chỉnh từ 20 micron đến 200 micron để phù hợp với các yêu cầu ứng dụng khác nhau.

Công nghệ xử lý TaC do Fraunhofer IISB phát triển có thể điều chỉnh các đặc tính lớp phủ cần thiết, chẳng hạn như độ dày, như minh họa bên dưới trong phạm vi từ 35μm đến 110 μm

Cụ thể, sơn phun Taccotta còn có những tính năng, ưu điểm nổi bật sau:

● Thân thiện với môi trường hơn: Với phương pháp phun sơn gốc nước, phương pháp này thân thiện với môi trường hơn và dễ công nghiệp hóa hơn;

● Tính linh hoạt: Công nghệ Taccotta có thể thích ứng với các bộ phận có kích thước và hình dạng khác nhau, cho phép phủ một phần và tân trang bộ phận, điều này không thể thực hiện được trong CVD.

● Giảm ô nhiễm tantalum: Các thành phần than chì có lớp phủ Taccotta được sử dụng trong sản xuất epiticular SiC và ô nhiễm tantalum giảm 75% so với hiện tạilớp phủ CVD.

● Chống mài mòn: Các thử nghiệm chống trầy xước cho thấy việc tăng độ dày lớp phủ có thể cải thiện đáng kể khả năng chống mài mòn.

Bài kiểm tra qua loa

Được biết, công nghệ này đã được thúc đẩy thương mại hóa bởi NKCG, một liên doanh tập trung vào việc cung cấp vật liệu than chì hiệu suất cao và các sản phẩm liên quan. NKCG cũng sẽ tham gia phát triển công nghệ Taccotta trong thời gian dài trong tương lai. Công ty đã bắt đầu cung cấp các thành phần than chì dựa trên công nghệ Taccotta cho khách hàng của họ.

Vetek Semiconductor thúc đẩy nội địa hóa TaC

Đầu năm 2023, chất bán dẫn vetek đã cho ra mắt thế hệ chip bán dẫn mớiTăng trưởng tinh thể SiCvật liệu trường nhiệt-cacbua tantalum xốp.

Theo báo cáo, chất bán dẫn vetek đã tạo ra bước đột phá trong việc phát triểncacbua tantalum xốpvới độ xốp lớn thông qua nghiên cứu và phát triển công nghệ độc lập. Độ xốp của nó có thể đạt tới 75%, đạt vị trí dẫn đầu quốc tế.