Chất nhạy cảm MOCVD với lớp phủ TaC

VeTek Semiconductor là nhà cung cấp toàn diện tham gia vào việc nghiên cứu, phát triển, sản xuất, thiết kế và kinh doanh lớp phủ TaC và các bộ phận phủ SiC. Chuyên môn của chúng tôi nằm ở việc sản xuất Chất cảm biến MOCVD tiên tiến nhất với Lớp phủ TaC, đóng vai trò quan trọng trong quy trình epit Wax LED. Chúng tôi hoan nghênh bạn thảo luận với chúng tôi các yêu cầu và thông tin thêm.

Gửi yêu cầu

Mô tả Sản phẩm

VeTek Semiconductor là nhà sản xuất, nhà cung cấp và xuất khẩu hàng đầu Trung Quốc chuyên về Chất nhạy cảm MOCVD với lớp phủ TaC. Chúng tôi hoan nghênh bạn đến nhà máy của chúng tôi để mua Bộ cảm ứng MOCVD bán chạy nhất, giá thấp và chất lượng cao với lớp phủ TaC. Chúng tôi mong muốn hợp tác với bạn.

Epitaxy LED phải đối mặt với những thách thức như kiểm soát chất lượng tinh thể, lựa chọn và kết hợp vật liệu, thiết kế và tối ưu hóa cấu trúc, kiểm soát và nhất quán quy trình cũng như hiệu quả khai thác ánh sáng. Việc lựa chọn vật liệu mang wafer epit Wax phù hợp là rất quan trọng và việc phủ nó bằng màng mỏng tantalum cacbua (TaC) (lớp phủ TaC) mang lại những lợi ích bổ sung.

Khi lựa chọn vật liệu mang wafer epit Wax, một số yếu tố chính cần được xem xét:

Khả năng chịu nhiệt độ và độ ổn định hóa học: Quá trình epit Wax LED liên quan đến nhiệt độ cao và có thể liên quan đến việc sử dụng hóa chất. Vì vậy cần lựa chọn những vật liệu có khả năng chịu nhiệt độ tốt và ổn định hóa học để đảm bảo sự ổn định của chất mang trong môi trường nhiệt độ cao và hóa chất.

Độ phẳng bề mặt và khả năng chống mài mòn: Bề mặt của chất mang wafer epit Wax phải có độ phẳng tốt để đảm bảo sự tiếp xúc đồng đều và sự phát triển ổn định của wafer epitaxy. Ngoài ra, khả năng chống mài mòn rất quan trọng để ngăn ngừa hư hỏng bề mặt và mài mòn.

Độ dẫn nhiệt: Việc lựa chọn vật liệu có độ dẫn nhiệt tốt giúp tản nhiệt hiệu quả, duy trì nhiệt độ tăng trưởng ổn định cho lớp epitaxy và cải thiện tính ổn định và đồng nhất của quá trình.

Về vấn đề này, việc phủ TaC lên chất mang wafer epit Wax mang lại những ưu điểm sau:

Độ ổn định ở nhiệt độ cao: Lớp phủ TaC thể hiện độ ổn định nhiệt độ cao tuyệt vời, cho phép nó duy trì cấu trúc và hiệu suất trong quá trình epitaxy ở nhiệt độ cao và mang lại khả năng chịu nhiệt độ vượt trội.

Độ ổn định hóa học: Lớp phủ TaC có khả năng chống ăn mòn từ các hóa chất và khí quyển thông thường, bảo vệ chất mang khỏi sự xuống cấp hóa học và tăng cường độ bền của nó.

Độ cứng và khả năng chống mài mòn: Lớp phủ TaC có độ cứng và khả năng chống mài mòn cao, tăng cường bề mặt của chất mang wafer epit Wax, giảm hư hỏng và mài mòn cũng như kéo dài tuổi thọ của nó.

Độ dẫn nhiệt: Lớp phủ TaC thể hiện tính dẫn nhiệt tốt, hỗ trợ tản nhiệt, duy trì nhiệt độ tăng trưởng ổn định cho lớp epitaxy và cải thiện tính ổn định và nhất quán của quy trình.

Do đó, việc lựa chọn chất mang wafer epit Wax có lớp phủ TaC giúp giải quyết các thách thức của epit Wax LED, đáp ứng yêu cầu của môi trường hóa chất và nhiệt độ cao. Lớp phủ này mang lại những ưu điểm như ổn định nhiệt độ cao, ổn định hóa học, độ cứng và khả năng chống mài mòn cũng như tính dẫn nhiệt, góp phần cải thiện hiệu suất, tuổi thọ và hiệu quả sản xuất của chất mang wafer epit Wax.

Tính chất vật lý cơ bản của lớp phủ TaC:

Tính chất vật lý của lớp phủ TaC
Tỉ trọng	14,3 (g/cm³)
Độ phát xạ cụ thể	0.3
Hệ số giãn nở nhiệt	6,3 10-6/K
Độ cứng (HK)	2000 HK
Sức chống cự	1×10-5 Ôm*cm
Ổn định nhiệt	<2500oC
Thay đổi kích thước than chì	-10~-20um
độ dày lớp phủ	≥20um giá trị điển hình (35um±10um)