Là nhà sản xuất và cung cấp sản phẩm Bệ thạch anh hợp nhất ALD chuyên nghiệp tại Trung Quốc, Bệ thạch anh hợp nhất ALD bán dẫn VeTek được thiết kế đặc biệt để sử dụng trong quá trình lắng đọng lớp nguyên tử (ALD), lắng đọng hơi hóa học áp suất thấp (LPCVD) cũng như quy trình wafer khuếch tán, đảm bảo lắng đọng đồng đều của màng mỏng trên bề mặt wafer. Chào mừng bạn đến với yêu cầu thêm của bạn.
Bệ thạch anh hợp nhất ALD bán dẫn VeTek đóng vai trò quan trọng trong quy trình sản xuất chất bán dẫn như một cấu trúc hỗ trợ chothuyền thạch anh, được sử dụng để giữbánh xốp. Bệ thạch anh hợp nhất giúp đạt được sự lắng đọng màng đồng đều bằng cách duy trì nhiệt độ ổn định, ảnh hưởng trực tiếp đến hiệu suất và độ tin cậy của các thiết bị bán dẫn. Ngoài ra, Bệ thạch anh đảm bảo phân phối nhiệt và ánh sáng đồng đều trong buồng xử lý, từ đó cải thiện chất lượng tổng thể của quá trình lắng đọng.
Ưu điểm của vật liệu bệ thạch anh hợp nhất ALD
Chịu nhiệt độ cao: Điểm làm mềm của bệ thạch anh nung chảy cao khoảng 1730°C, có thể chịu được hoạt động ở nhiệt độ cao từ 1100°C đến 1250°C trong thời gian dài và có thể tiếp xúc với môi trường nhiệt độ khắc nghiệt lên tới 1450°C trong một thời gian ngắn.
Chống ăn mòn tuyệt vời: Thạch anh nung chảy có tính trơ về mặt hóa học cao đối với hầu hết các axit ngoại trừ axit flohydric. Khả năng chống axit của nó cao hơn gốm sứ 30 lần và cao hơn thép không gỉ 150 lần. Thạch anh nung chảy không thể so sánh được về mặt hóa học ở nhiệt độ cao, khiến nó trở thành vật liệu lý tưởng cho các quá trình hóa học phức tạp.
Độ ổn định nhiệt: Đặc điểm chính của vật liệu Bệ thạch anh hợp nhất là hệ số giãn nở nhiệt cực thấp. Điều này có nghĩa là nó có thể dễ dàng xử lý các biến động nhiệt độ đột ngột mà không bị nứt. Ví dụ, thạch anh silic nung chảy có thể được làm nóng nhanh đến 1100°C và ngâm trực tiếp vào nước lạnh mà không bị hư hại, một tính năng quan trọng trong điều kiện sản xuất có áp suất cao.
Quy trình sản xuất nghiêm ngặt: Quy trình sản xuất bệ silica nung chảy tuân thủ nghiêm ngặt các tiêu chuẩn chất lượng cao. Quy trình sản xuất sử dụng quy trình hàn và tạo hình nóng, thường được hoàn thành trong môi trường phòng sạch cấp 10.000. Sau đó, bệ thủy tinh thạch anh nung chảy được làm sạch hoàn toàn bằng nước siêu tinh khiết (18 MΩ) để đảm bảo độ tinh khiết của sản phẩm và hiệu suất tối ưu. Mỗi sản phẩm hoàn thiện đều được kiểm tra, làm sạch và đóng gói nghiêm ngặt trong phòng sạch cấp 1.000 trở lên để đáp ứng các tiêu chuẩn cao của ngành bán dẫn.
Vật liệu thạch anh silic đục có độ tinh khiết cao
Bệ thạch anh hợp nhất VeTeksemi ALD sử dụng vật liệu thạch anh mờ đục có độ tinh khiết cao để cách ly nhiệt và ánh sáng một cách hiệu quả. Đặc tính che chắn nhiệt và che ánh sáng tuyệt vời của nó cho phép nó duy trì sự phân bố nhiệt độ đồng đều trong buồng xử lý, đảm bảo tính đồng nhất và nhất quán của mỏnglắng đọng phimtrên bề mặt wafer.
Trường ứng dụng
Bệ thạch anh nung chảy được sử dụng rộng rãi trong nhiều lĩnh vực của ngành công nghiệp bán dẫn do hiệu suất tuyệt vời của chúng. trongquá trình lắng đọng lớp nguyên tử (ALD), nó hỗ trợ kiểm soát chính xác sự phát triển của màng và đảm bảo sự tiến bộ của các thiết bị bán dẫn. trongquá trình lắng đọng hơi hóa học áp suất thấp (LPCVD), độ ổn định nhiệt và khả năng che chắn ánh sáng của Bệ thạch anh có độ tinh khiết cao đảm bảo cho sự lắng đọng đồng đều của màng mỏng, từ đó cải thiện hiệu suất và năng suất của thiết bị.
Ngoài ra, trong quá trình khuếch tán wafer, khả năng chịu nhiệt độ cao và khả năng chống ăn mòn hóa học của Bệ thạch anh hợp nhất đảm bảo độ tin cậy và tính nhất quán của quá trình pha tạp vật liệu bán dẫn. Các quy trình chính này quyết định hiệu suất điện của các thiết bị bán dẫn và vật liệu Thạch anh nung chảy chất lượng cao đóng vai trò không thể thiếu trong việc đạt được kết quả tốt nhất của các quy trình này.
Cửa hàng Bệ thạch anh hợp nhất của VeTek Semiconductor ALD: